污污内射久久一区二区欧美日韩

污污内射久久一区二区欧美日韩產品與應用/特種金屬
/public/uploads/images/20230418/b45d29b29453f470ded1f60a91e91be0.jpg
/public/uploads/images/20230413/4ddb63f674720306e4578f18392eff8a.jpg
/public/uploads/images/20230413/debeda5def9de1ece0d310f45118676c.jpg

晶圓去膜液

REM-3662 去膜劑是一種用于Wafer Bumping的專業液,獨特的產品組分能夠加速剝離,不攻擊錫(或者錫鉛),特別適用于高密度錫球工藝制程。
立即咨詢定制
電話咨詢: 13372171926

產品描述

產(chan)品描(miao)述 

REM-3662去膜(mo)劑是一種用(yong)于Wafer Bumping的專業(ye)液,獨特的產品組分能夠加速剝離,不攻擊錫(或者錫鉛),特別適用于高密度錫球工藝制程。


產品優點(dian)

1.高速剝離;

2.不(bu)攻擊錫(或(huo)者錫鉛(qian));

3.統一的剝離速度(du),非常適合制程(cheng)管(guan)理;

4.工(gong)作液壽(shou)命(ming)長;

5.槽液簡單易操作;

1681353043384368.jpg

物理參(can)數(shu)

1.外觀(guan):澄清至棕(zong)黃色液(ye)體

2.氣(qi)味(wei)(wei):特征氣(qi)味(wei)(wei)

3.儲存溫度:5–35℃

4.含水率(lv):<1.0%


槽液(ye)配(pei)制

1.100%原液配槽(cao)使用

2.工作液溫度:90–100℃


設備條件

1.工作槽(cao):不(bu)銹鋼

2.加熱(re)器:鐵氟龍

3.抽風設備(bei):需要,可(ke)以選裝風量檔位裝置

 

槽液分(fen)析

1.工作(zuo)液濃度:

a.試劑:0.1 N HCl,溴酚綠和甲(jia)基紅指示(shi)劑

b.步驟:

(1)移(yi)取1ml工作液,置于250ml錐形瓶內;

(2)加入100ml純(chun)水稀釋;

(3)滴入各5滴溴(xiu)酚綠和甲基(ji)紅指示(shi)劑(ji);

(4)用0.1N HCl滴(di)定,由綠色至橙-粉紅色終點。

公式:REM 3662濃度(N) = ml HCl * N HCl   (工作液(ye)濃度:0.7–1.3 N)

2.水分檢(jian)測(ce):

卡式水(shui)分儀(yi):取1-2ml的工作液(ye),

按照(zhao)正常(chang)的操(cao)作流程讀(du)取讀(du)數 (含水率:<1.0%)


安全守則

任何公司或操作人員在使(shi)用前, 需先參(can)考物(wu)料安全(quan)資料表(biao)以確保使(shi)用者安全(quan)。